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目前大家应该是对光刻机是谁发明的比较感兴趣的，所以今天好房网小编CC就来为大家整理了一些关于光刻机是谁发明的方面的相关知识来分享给
目前大家应该是对光刻机是谁发明的比较感兴趣的，所以今天好房网小编CC就来为大家整理了一些关于光刻机是谁发明的方面的相关知识来分享给大家，希望大家会喜欢哦。
法国人Nicephore niepce。尽管光刻机发明的时间较早，但并没有在各行业领域之中被使用，直到第2次世界大战时，该技术应用于印刷电路板，所使用的材料和早期发明时使用的材料也已经有了极大区别，在塑料板上通过铜线路制作，让电路板得以普及，短期之内就成为了众多电子设备领域中关键材料之一。
光刻机：光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。
A手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；
B半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；
C自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
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