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导读目前是有很多朋友们对于溅射靶材这个信息比较感兴趣，那么小编也是收集了一些溅射靶材相关的信息来分享给大家，希望你会喜欢哦。1、溅射...
1、溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。
2、磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。
3、这种被镀的材料就叫溅射靶材。
4、 溅射靶材有金属，合金，陶瓷化合物等。
本文到此结束，希望对大家有所帮助。
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