对于光刻机是什么这个问题感兴趣的朋友应该很多，这个也是目前大家比较关注的问题，那么下面小好小编就收集了一些光刻机是什么相关的知识回答，来分享给大家希望能够帮助到你哦。

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2、光刻机（MaskAligner)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

3、光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动：

4、1、手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；

5、2、半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；

6、3、自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

本文到此结束，希望对大家有所帮助。

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